德国镜头制造商蔡司（Zeiss）半导体业务的首席执行官弗兰克·罗蒙德（Frank Rohmund）认为，尽管中国可能落后于西方当前芯片制造技术达14年之久，但对华限制措施反而会加速其创新步伐。这位高管在台湾SEMICON大会期间接受了彭博社（Bloomberg）采访，并表示，在将中国的深紫外（DUV）光刻技术与非中国技术进行比较之前，必须从多个参数维度对其进展进行评估。
蔡司高管称中国在DUV光刻技术上的进步并不令人意外
由于西方的限制措施，有关中国光刻技术进展的消息几乎总是受到密切关注。例如，今年7月下旬有报道称，中国已开始生产其浸没式DUV光刻机。这些机器属于先进的DUV设备，依靠一层精细的水来操控光线，从而印制芯片电路。
然而，其他报道则指出，这些机器不太可能对设备主导市场的阿斯麦（ASML）构成威胁，因为消息人士认为中国设备难以匹敌这家荷兰公司的产品。
对于蔡司半导体业务的首席执行官罗蒙德而言，他对此似乎表示认同。在接受彭博社采访时，他表示，虽然他对中国DUV光刻机的了解并不比媒体报道的更多，但众所周知，中国“几十年来”一直在研发DUV设备。
他还强调，有必要从多个参数维度对这类机器进行评估：
“现在我们需要看看这些设备究竟有多大能力。我们相信，在性能、生产力、用户友好度和服务能力方面，我们仍然遥遥领先。”
罗蒙德还透露，蔡司拥有约1500家供应商，并且早在数年前就已开始布局其供应链，以满足当前增长周期下的产能需求。在谈到人工智能发展周期时，他指出，这一周期至少将持续到2028年。
至于对中国的出口限制，他阐明，蔡司的“基本假设”是，“局面仍将维持现状，即我们无法向中国出口EUV技术”。
这位蔡司高管还谈到瑞银集团（UBS）近期的一份报告，该报告指出，在EUV设备研发方面，中国至少落后阿斯麦十年。在评论EUV光刻机制造工艺更为复杂时，他表示，15年的差距似乎是一个“可能合理的假设”，但这存在一定的浮动范围。
随着有报道称特朗普政府甚至可能对中国施加额外制裁，以切断其获取DUV设备的渠道，他警告说，这些措施反而可能加速中国的创新：
“显然，这对我们的业务不利。而且我们对此持怀疑态度——我们不相信这种出口限制能产生积极影响，因为它会加速中国的创新。因此，我们希望务实主义仍能占据上风，也希望我们能够继续在中国开展业务。”
