三星（Samsung）正在开发一种结合量子计算和人工智能的光刻模拟技术。据韩国媒体报道，该技术将用于芯片制造第一阶段的光刻模拟流程，三星还将借助人工智能来简化工艺，旨在降低光刻与蚀刻过程的时间和成本。
知情人士透露，三星正在开发用于提升光刻工艺的算法。
在半导体制造流程中，光刻是第一步，也是最关键的一步。该环节需要使用名为光刻机的高端设备，在晶圆上铺设电路的蓝图。对于最新的制造工艺而言，这一步必须使用荷兰公司ASML制造的先进设备，这些设备依靠紫外光来绘制微小电路的设计图。
由于光刻在工艺中的核心地位，它往往决定了制造技术的成败。韩国《首尔经济日报》报道称，三星正在开发基于量子计算的算法，以优化光刻工艺，重点关注芯片密度和良率。在半导体制造中，良率指的是一块晶圆上可用芯片的数量，而密度则指芯片单位面积上晶体管的数量。
三星计划于明年进行量子光刻算法的概念验证。根据报道详情，三星正在开发用于模拟光刻过程的算法。为了运行这些算法，该公司计划依赖量子计算机。在完成光刻过程模拟后，三星准备利用人工智能来检测并纠正光刻流程中的错误。
《首尔经济日报》的消息人士补充称，三星的目标是在明年通过概念验证来确认这些算法的可行性，因为算法本身已准备就绪。这项技术由三星SDS（Samsung SDS）——三星的数字化业务部门——负责开发。如果该模拟软件被证明可行，预计将分享给三星的旗舰子公司三星电子（Samsung Electronics）。
人工智能已用于半导体制造领域，台积电（TSMC）就依靠英伟达（NVIDIA）的技术来开发其芯片制程节点。
