中国的半导体产业可能面临潜在的冲击，因为美国立法者正着手禁止向该地区出口关键的阿斯麦（ASML）设备。美国立法者正寻求禁止向中国出口阿斯麦的深紫外光刻技术，目标直指华为、中芯国际等众多企业。
中国与美国在出口限制，尤其是半导体领域的限制，已斗争了相当长一段时间。此前，美国政府通过荷兰阿斯麦公司对中国实施极紫外光刻设备的间接出口禁令，曾导致该行业大幅下滑。这确实促使中国加大了建设国内芯片供应链的力度，但也阻碍了其在制程竞赛中向上攀登的努力，这就是为什么“官方层面”中国被限制在5纳米制程。然而，根据外交关系委员会的一份新闻稿，立法者正准备通过《MATCH法案》，该法案将禁止深紫外光刻设备的出口。
这项两党支持的立法旨在使美国出口管制现代化，以确保对手无法从美国或其伙伴国购买它们自身无法制造的“瓶颈”半导体制造设备技术。
通过促进盟友间出口管制的一致化，并关闭设备服务和针对特定实体的漏洞，《MATCH法案》旨在保持美国在与中国的人工智能竞争中的技术领先地位。
对于那些不了解深紫外光刻设备目前对中国有多重要的人来说，它是该地区芯片制造厂唯一实际可行的选择。中国的芯片巨头如华为、中芯国际和华虹，以及内存制造商如长鑫存储和长江存储，都完全依赖深紫外光刻技术来满足各自的需求。中芯国际利用阿斯麦的深紫外光刻设备，通过多重曝光技术实现了其N+1/N+2类7纳米制程。同时，长鑫存储和长江存储则使用深紫外光刻机来扩大内存产能。鉴于国内芯片巨头一直在竞相提高产能，潜在的深紫外光刻禁令可能会严重阻碍这些努力。
《MATCH法案》提议禁止“销售或维护”深紫外浸没式光刻技术，其理由是这些设备正被用于实现中国军事技术的现代化。该法案还提议，所有上述中国深紫外光刻设备用户都将面临类似于《实体清单》下的限制，这将禁止它们进入外国市场。《MATCH法案》目前仍在讨论中，尚未签署成为法律，但美国立法者似乎正瞄准中国半导体供应链的一个关键环节。
此前预计，随着长鑫存储和长江存储等客户大力投资新生产线，未来几个季度从中国供应商采购的深紫外光刻设备将会增加。然而，根据阿斯麦最新关于中国地区营收的报告，其占总营收的近20%，而这完全由深紫外光刻设备销售驱动。鉴于《MATCH法案》已正式提出，我们可能会看到阿斯麦在地缘政治方面面临另一个挑战，因为这家荷兰芯片制造商将无法进入全球最大的半导体市场之一。
过去几年，中国对深紫外光刻技术的依赖一直非常显著。尽管国内产业努力制造自主设备，但主要局限于28纳米等成熟制程。对于7纳米等更高端的制程，芯片制造厂一直严重依赖阿斯麦的技术，这就是为什么美国的立法可能成为一个重大难题。
