台积电的前任与现任工程师卷入一起2纳米技术窃密案，经过深入调查，涉案人员现正面临法律追诉。
在技术窃密领域，半导体产业是重点目标，这不仅涉及台积电内部，也牵涉地缘政治。台湾地区对此类窃密指控极为重视，近期的一起案件就涉及台积电员工涉嫌窃取2纳米技术。根据《联合报》近期报道，台积电工程师在听证中被发现违反“国家安全法”，案件已由地方法院调查终结。检方现正寻求对涉案工程师判处最高14年徒刑。
检方指出，从2023年至去年上半年，为使东京威力科创（Tokyo Electron Ltd.）能成为台积电更多先进制程厂区的设备供应商，陈立明多次要求当时在职的台积电工程师吴秉骏与葛怡平提供关键技术及商业秘密。
在拍摄并复制相关信息后，东京威力科创审查并改进了其蚀刻设备的性能，以期获得为台积电2纳米制程蚀刻环节供应量产设备的资格。
此前有报道称，台积电内部安全系统标记出试图非法访问公司数据库的人员，上述工程师显然在台积电的N2制程研发期间，使用智能手机拍摄了敏感文件。这起所谓“半导体窃密案”的主谋是台积电前员工陈伟杰，其后来加入了东京威力科创。收集敏感文件的目的在于获取台积电2纳米蚀刻制程的信息，从而使东京威力科创能够改进其芯片设备，以争取来自台积电的订单。
鉴于该制程节点的重要性，台积电与台湾地区相关当局立即启动了调查。据报道，陈伟杰及其在东京威力科创的前主管因此正面临惩处。由于技术窃密在台湾地区被视为最高级别的犯罪之一，检方寻求对涉案工程师判处最高14年徒刑，凸显了当地司法系统对此类案件的严厉打击。值得注意的是，另有一项针对前台积电员工、现就职于英特尔（Intel）的罗伟仁（Wei-Jen Lo）的类似调查也在进行中，其同样被指控涉及敏感技术转移。
