ASML（ASML）计划通过其在极紫外光刻技术领域的最新突破，使芯片制造厂商能够大幅提升产量，这家荷兰芯片设备制造商正在增强其光源能力。
ASML增强型极紫外光源预计将带来晶圆厂产出的巨大提升，而这仅需通过设备升级即可实现。
半导体行业目前正处于一个由无晶圆厂制造商需求驱动的超级周期中，这不仅限于消费产品，也包括企业级和人工智能领域。我们曾广泛报道过像台积电（TSMC）这样的芯片巨头如何面临严重的供应限制，而供应链应对此问题的一种方式是建立一个庞大的晶圆厂网络。然而，据报道，ASML为供应问题提供了一种新的解决方案。根据路透社的消息，这家芯片设备制造商现已“找到方法”，将极紫外光源的功率从600瓦提升至1000瓦（1千瓦）。通过这项技术，该公司希望在未来不到十年的时间里，将芯片产量提升超过50%。
这并非一种短暂的戏法或类似的东西，即我们只在极短时间内演示其可行性。这是一个能够在满足客户所有相同要求的前提下，稳定输出1000瓦功率的系统。
—— ASML的迈克尔·珀维斯（Michael Purvis）
据称，通过将光源功率提升至最高1千瓦，ASML预计芯片产出将从每小时220片硅晶圆增加到330片，同时保持产出成本不变。这表明这家荷兰芯片设备制造商可能已经找到了解决芯片供应限制的方案。目前，该公司尚未详细说明全球芯片制造商何时会采用这项更新的技术，但基于现有报道，我们可能会看到晶圆厂的经济效益发生巨大转变，因为在不增加洁净室容量或新设备的情况下实现芯片产量50%的增长，简直令人惊叹。
这种方法面临的一个有趣的限制是，ASML计划如何改进这种新型极紫外光源在晶圆厂中的集成。我们确实知道，该公司向其客户提供“生产力增强套件”，用于设备升级，而无需对现场整台机器进行改动。但对于像NXE:3400C/D这样的旧型号机器，热极限最终迫使公司增加1000瓦光源，因此这种方法可能主要针对现有的NXE:3800E配置以及即将推出的高数值孔径EXE:5000/5200型号。
报告还讨论了ASML近期的努力，这些努力旨在加强该公司在芯片制造领域的护城河，这主要是由于来自中国的竞争。有趣的是，美国初创公司Substrate也被视为这家荷兰芯片设备制造商的一个强大竞争对手，因为它独特地整合了利用粒子加速器产生的更短波长X射线。
ASML的极紫外光刻方案也引发了关于增强型光源的电力供应、冷却和氢气流等方面的担忧。但鉴于当前芯片生产瓶颈的严重程度，晶圆厂无疑将以极大的乐观态度看待ASML的最新突破。
