M5 ProM5 Max最大的亮点之一,是传闻两款芯片组都将采用台积电(TSMC)SoIC封装(小外形集成电路)和2.5D小芯片设计,这将使该公司能够以更低的成本大规模生产性能更强的SoC。一则新传闻几乎重复了相同的信息,谈论了新款Apple Silicon系列的优势,同时还提到M5 ProM5 Max都将具备略高的晶体管密度。

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预计M5 ProM5 Max的新小芯片设计将允许独特的CPUGPU配置,以实现更好的灵活性。

在微博上,用户定焦数码(Fixed-focus digital cameras)分享了关于苹果(Apple)即将推出的芯片组的各种更新信息,包括从InFO(集成扇出)技术向2.5D技术的转变,这将带来一系列好处。在最新的帖子中,该用户基本上总结了相同的优势,例如改进的散热、新的封装技术,唯一值得注意且此前未提及的补充是晶体管密度的增加。

不过,苹果(Apple)从未公布过M5的晶体管数量,因此无法知晓它是否与M4不同。幸运的是,M5 ProM5 MaxM4 ProM4 Max提供更高晶体管数量的唯一可靠证据,是苹果(Apple)台积电(TSMC)3nm N3E制程节点转向3nm N3P技术。

我们之前讨论过,高通(Qualcomm)可能不想像苹果(Apple)那样转向小芯片设计的一个原因,是由于多个小芯片相互通信会导致功耗增加。如果是这样,那是否也意味着M5 ProM5 Max的功耗会增加?

从逻辑上讲,这个假设是正确的,但如果我们看看苹果(Apple)A19 Pro上的架构变化——该变化使得能效核心在功耗不变的情况下性能提升高达29%——同样的变化也可以应用于M5 ProM5 Max

值得庆幸的是,我们无需等待太久就能获得这个难以捉摸的信息,因为同一位爆料者声称这些芯片组将在3月发布。不过,定焦数码(Fixed-focus digital cameras)的过往爆料记录并非最佳,因此目前我们对此传闻持保留态度。


文章标签: #苹果芯片 #M5系列 #台积电 #小芯片设计 #晶体管密度

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