据路透社报道，英特尔正在评估来自ACM Research的湿法刻蚀设备，以考虑将其用于其关键工艺技术。ACM Research是一家总部位于美国的半导体设备制造商，其主要市场在中国，并在中华人民共和国拥有广泛的业务。尽管英特尔会测试来自众多设备制造商的各种工具，但这些特定的刻蚀机引发了政治和国家安全方面的担忧。此外，由英特尔首席执行官陈立武（Lip Bu Tan）创立并担任主席的风险投资公司Walden International，曾在2019年投资了ACM Research。
据路透社引述的消息人士称，英特尔评估了ACM Research的两款湿法刻蚀工具，计划用于其至关重要的14A制造工艺。该工艺计划于2027年首次推出，被认为是该公司晶圆代工业务的成败关键。今年早些时候，英特尔表示，如果无法为14A工艺争取到至少一家大型外部客户，可能会推迟该生产节点的推出，甚至搁置。目前尚未确认评估的工具是否已获准用于生产。尽管如此，英特尔愿意测试来自一家旗下部分单位已被制裁的供应商的设备，无疑会引发许多政治和国家安全方面的担忧。ACM Research最近证实，已向美国客户发货了设备。
ACM Research的总裁兼首席执行官王博士（Dr. David Wang）表示：“与此同时，我们在全球扩张方面取得了重要进展，计划在第三季度向美国交付多台设备。”
刻蚀系统通过使用液体中的化学反应（湿法刻蚀）或真空中的反应等离子体（干法刻蚀），从晶圆上去除选定的材料，以转移光刻定义的图案，或用于清洁和准备表面。湿法刻蚀依赖于液体化学物质，例如用于去除氧化物的HF或具有极高选择性的H₃PO₄来溶解材料，且不会产生等离子体损伤。这种方法非常适合去除氧化物、牺牲层以及刻蚀后清洗，但它通常是各向同性的，会均匀地侵蚀所有方向上的暴露材料，因此可能导致特征尺寸超出预期，或完全蚀刻掉狭窄的线条。
干法刻蚀使用电离气体和射频功率来实现各向异性、定向的刻蚀，具有严格的关键尺寸控制和高深宽比，但代价是选择性较低、设备复杂度更高，并可能产生离子和充电损伤。因此，现代晶圆厂同时使用这两种刻蚀类型：干法刻蚀用于精确的图案转移，湿法刻蚀用于选择性去除、清理和表面处理。虽然ACM Research制造世界级的干法和湿法刻蚀设备，但其他知名公司如应用材料（Applied Materials）、科磊（KLA）、泛林集团（Lam Research）和东京电子（Tokyo Electron）也生产同类设备。对所有芯片制造商来说，测试所有供应商的工具是很自然的事情，但在英特尔和ACM Research的案例中，难免会引发疑问。
关于ACM Research的一个有趣细节是，由陈立武（Lip-Bu Tan）（英特尔现任首席执行官）创立并担任主席的风险投资公司Walden International，此前已投资了ACM Research。这项投资是通过Walden CEL Global Fund I进行的，这是一个由Walden International和中国光大控股有限公司（China Everbright Limited）共同发起、于2017年成立的私募股权基金。截至2025年3月，相关申报文件显示Walden仍持有ACM的股份，但其当前持股情况尚不明确。无论如何，这似乎并非该公司的主要持股。
如果Walden仍持有股份，那么陈立武（Lip-Bu Tan）可能会通过Walden International和Walden CEL Global Fund I间接持有的财务权益，从英特尔向ACM Research采购设备中获益。然而，这种获益是间接的且无法保证，因为英特尔的测试可能不会导致大规模采购。此外，鉴于ACM Research旗下部分单位因与长鑫存储（CXMT）、中芯国际（SMIC）和长江存储（YMTC）的关联已被美国政府列入黑名单，其未来与某些中国客户的收入并不确定。
自2023年ACM Research在俄勒冈州希尔斯伯勒附近建立其设施以来，该公司显然已向英特尔示好了一段时间。该地点“战略性地靠近关键客户和合作伙伴”。此外，有报道称ACM在2023年底和2024年向英特尔的D1D/D1X研发设施交付了首批工具，这意味着英特尔决定与ACM合作的时间远早于陈立武成为其首席执行官。尽管如此，在2023年至2024年期间，他是英特尔的董事。
