英特尔（Intel）前首席执行官帕特·基辛格（Pat Gelsinger）显然已重返芯片行业。芯片公司xLight发布公告称，该公司已获得联邦政府的激励资金。
xLight计划为极紫外光刻工具引入一种基于自由电子激光的更新型光源，据称其效率高于传统方案。自特朗普政府上任以来，芯片产业变得愈发重要，这也是该领域受到极大关注的原因。我们看到美国政府推动台积电（TSMC）等芯片制造商进行大规模投资，同时政府也投资了英特尔等公司，以确保美国技术的保护。如今，美国商务部似乎正寻求为那些能够加强国内芯片制造能力的公司提供支持，因此初创企业xLight依据《芯片与科学法案》获得了1.5亿美元的联邦激励资金。
对于尚不了解的人来说，xLight是一家专注于芯片光刻的公司，计划通过聚焦自由电子激光技术，为极紫外光刻工具实现新型光源。xLight不打算采用传统路径，而是计划利用粒子加速器产生高能电子束，从而产生极紫外光子。据称，与激光产生等离子体技术相比，该技术的效率要高得多。这一进展备受关注的主要原因之一是，这标志着美国初创公司首次涉足这一特定领域。
复兴摩尔定律并恢复美国在光技术领域的领导地位是千载难逢的机遇，在联邦政府的支持下，xLight将把机遇变为现实。构建一个能效比当今技术提升十倍的极紫外激光器，将驱动摩尔定律的下一个时代，加速晶圆厂的生产力，同时发展一项关键的国内能力——xLight董事会执行主席帕特·基辛格表示。
在光刻领域，专门从事此项业务的主体非常少，因此该领域出现的每一家初创公司都会吸引行业关注。另一个例子是公司Substrate，该公司声称利用波长更短的X射线进行芯片图案化，并获得了彼得·蒂尔（Peter Thiel）的创始人基金支持。然而，就xLight而言，该公司将在奥尔巴尼纳米技术综合体（Albany Nanotech Complex）合作伙伴的支持下，开始着手基于自由电子激光的环境开发工作。
然而，目前对xLight来说并非一切都处于最佳状态，因为即使他们为极紫外光刻工具开发出自由电子激光光源，仍然需要将其与阿斯麦（ASML）的现有产品集成。这不仅是一项成本高昂的尝试，也可能导致这家荷兰芯片制造商不愿尝试自由电子激光技术。另一个需要考虑的重要限制是，自由电子激光光源已知能提供研究级性能；然而，在大批量制造方面，该技术仍存在不确定性。
光刻技术确实是美国芯片产业的一个重大瓶颈，特别是国内制造需要完全依赖阿斯麦的工具。像xLight和Substrate这样的公司能否在芯片光刻领域取得突破，将是一个有趣的问题，因为两家公司在纸面上都显得相当乐观。
