英特尔首席执行官陈立武（Lip-Bu Tan）就涉及前台积电高管加入其公司的工艺技术泄露指控作出回应，表示英特尔尊重他人的知识产权。
这位新任“前台积电”高管不会带来任何工艺技术，但其加入将在其他多个方面产生助益。芯片行业似乎正酝酿新事端，涉及英特尔与台积电在半导体前沿领域的激烈竞争。我们曾探讨过台积电前高管加入英特尔代工部门担任研发要职，以及随之流传的“2纳米技术泄露”传闻。不过，英特尔首席执行官陈立武已就此发表声明，称这纯属谣言，并强调公司尊重台积电等企业研发的核心技术。该声明虽是在半导体工业协会颁奖典礼场合发布，但仍具深刻意义。
“这完全是谣言和猜测，毫无事实依据。我们尊重知识产权。”——英特尔首席执行官。
需要说明的是，台积电前高管罗伟仁博士即将加入英特尔代工部门，其聘用引发争议的原因之一在于，这位官员曾深度参与台积电工艺流程，据称掌握相关“关键数据”。此事已惊动台湾当局展开调查，因为台积电对前官员加入竞争对手企业有着严格政策。罗伟仁在原职位上曾接触这家台湾芯片巨头的敏感信息。
截至目前，台湾经济部长龚明鑫已披露正式调查正在进行中，同时当局也在关注台积电内部的判断标准。鉴于台积电芯片业务规模庞大且每位员工都承担着“专业职责”，台湾政府的干预作用有限。不过根据目前掌握的信息，正如早前报道所述，罗伟仁博士加入英特尔更侧重于先进封装领域。
英特尔的18A及更先进制程技术与台积电存在多项差异，包括PowerVia背面供电与RibbonFET全环绕栅极技术的应用。此外，英特尔还是高数值孔径极紫外光刻技术的早期采用者，而台积电尚未引入该技术。英特尔代工从罗伟仁加入中获益的唯一途径，可能是借助其对供应链动态的深刻理解——特别是美国客户寻求外部代工服务时的需求。就技术转移的可能性而言，目前看来微乎其微。
