中国台湾当局已启动一起涉及国家安全的调查，案件牵涉台积电前研发高管涉嫌向外国公司泄露商业机密。据高等检察署发言人向《日经亚洲》透露，涉案人员为罗唯仁（Wei-Jen Lo）。目前调查重点在于确认是否存在故意或非法转移台积电商业秘密至境外实体的行为。
罗唯仁作为在台积电与英特尔任职多年的资深高管，今年在这家中国台湾晶圆代工巨头服务满21年后退休，期间曾组建业界顶尖的半导体研发团队。然而据《自由时报》报道，他未安享退休生活，反而于十月底意外现身英特尔，并涉嫌携带大量涉及台积电先进制程技术的机密资料。需注意的是，目前信息均属非官方渠道，英特尔与台积电均拒绝就此置评。
据《拓墣产业研究》报告，罗唯仁在离开台积电约三个月后，于十月底重返英特尔担任研发副总裁。而《自由时报》指出，离职前罗唯仁曾利用其企业策略发展资深副总裁职权，要求下属复制涉及台积电N2、A16、A14及后A14制程技术等受限技术文件。由于高阶主管此类要求看似常规，当时并未触发内部安全警报。
若《自由时报》报道属实，罗唯仁在英特尔负责从研发到量产前的先进设备与模块开发，这已超出常规研发副总裁职责范畴。尽管表面看来，大型芯片制造商通常由模块负责人或制程负责人分管具体技术环节，但鉴于设备调试对半导体性能与良率的至关重要性，英特尔可能特设此职位监督新产线设备。
即便罗唯仁确实取得台积电N2、A16、A14等制程技术文件，对英特尔的实际助益亦相当有限。英特尔18A制程技术已实现量产，且其与台积电N2、A16在技术路径上存在根本差异。至于更先进节点，英特尔14A计划采用高数值孔径极紫外光刻设备，而台积电A14仍依赖低数值孔径设备与多重曝光技术，二者技术路线迥异。不过作为台积电近年先进技术开发领军人物，其带来的企业文化输入可能对英特尔制程开发体系产生价值。
罗唯仁的离职原本被视为荣退里程碑。台积电不仅为其举办21周年荣退仪式，离任后更获萧美琴副院长亲自颁授工研院院士殊荣。由于公司认定其为退休，据信未要求签署竞业禁止协议——该协议通常规定离职高管18个月内不得任职竞争对手企业，并给予半薪补偿。目前台积电正调查其是否确实携带商业机密离职。
罗唯仁最近职务为台积电研发组织资深副总裁，主管技术开发。他于2004年加入公司，最初担任运营二厂副总裁，2006至2009年领导研发部门，后转任先进技术业务与制造技术运营负责人。其团队累计获得全球超过1500项专利，其中约1000项于美国申报。
据公开资料显示，在加入台积电前，罗唯仁博士曾于1997至2000年在英特尔圣克拉拉研发基地担任高级技术生产职务，早期职业生涯还包括美国大学教职，以及摩托罗拉研发组织与施乐微电子中心的研究职位。
