在深圳举办的维西米湾半导体生态系统博览会上，多家中国公司展示了半导体相关创新成果。据《南华早报》报道，从上海微电子装备集团分拆的Amies科技公司推出了新型设备组合，包括用于化合物半导体的光刻机。而获华为和中国政府支持的SiCarrier旗下多家子公司，则发布了甚至能应用于极紫外光刻的先进EDA工具和光刻胶。
Amies作为上海微电子装备集团专注于非光刻类设备的子公司，现场演示了用于砷化镓、氮化镓、磷化铟等化合物半导体生产的光刻设备，以及激光退火系统、先进检测工具和封装晶圆键合解决方案。该公司虽成立于2025年初，但已交付超过500台光刻步进机。
SiCarrier的设计部门启云方科技推出两款基于自主知识产权的本土EDA软件平台。厂商宣称相较于楷登电子、新思科技、西门子EDA等对华出口工具，新平台能提升30%设计效率并缩短40%硬件开发周期。据称已有逾2万名工程师使用该软件进行芯片开发，尽管中国EDA自给率仍略高于10%。
虽然美国禁令导致中国境内没有阿斯麦的极紫外光刻设备，且短期内难以期待本土企业突破该领域，但SiCarrier材料子公司天宇科技展出了可用于极紫外光刻的光刻胶。该公司已申请多项涉及氧化锡金属簇化学配方及3纳米至50纳米图形分辨率的专利。尽管专利文件提及电子束和深紫外曝光而非极紫外光刻，但其技术特性与极紫外光刻胶领先供应商JSR的产品高度相似。
值得注意的是，天宇科技专利清单中多数发明人标注为“未公开”，暗示其存在保密研发合作及可能的政府支持。
SiCarrier另一子公司龙瞰科技则推出了90GHz实时示波器，性能较此前国产型号提升五倍。该系统可为3纳米及5纳米级工艺技术提供精确信号完整性分析，这将为中芯国际及未来可能建设此类产线的华为晶圆厂提供关键技术支撑。
