英特尔高管流失,俄亥俄州工厂项目延迟,芯片制造计划受阻
英特尔多位高管离职,包括俄亥俄州工厂项目关键说客和项目经理。工厂建设进度延迟,投产或推迟至2031年,公司芯片制造计划面临困境,经营压力增大。
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锤刻创思寰宇网
英伟达(NVIDIA)面向中国人工智能市场的下一代布莱克维尔(Blackwell)芯片B30A将采用HBM3E内存,其性能提升主要由架构升级驱动。
与采用单片设计的H20人工智能芯片不同,B30人工智能芯片将采用双芯粒设计。这一设计使得B30A芯片在小芯片配置方面有望与B200/B300芯片看齐。根据此前预估,该芯片规格将是B300芯片的一半——配备141GB的HBM3E 8-HI内存,采用台积电(TSMC)N4P制程工艺,并支持900GB/s带宽的NVLink互联技术,这些配置与H20芯片相似。
英伟达计划通过双芯粒设计获得相对于H20的优势。考虑到霍珀(Hopper)与布莱克维尔两代架构之间的显著性能差距,B30A芯片很可能成为中国客户青睐的解决方案。分析师称中国特供版布莱克维尔芯片最早可能在2025年第四季度亮相,这意味着黄仁勋(Jensen Huang)及其团队需要在未来数周内争取获得特朗普政府的监管批准。
当前中国人工智能企业正积极寻求替代英伟达的技术方案,这意味着英伟达需要加速通过布莱克维尔解决方案进入中国市场。在此背景下,最终确定的B30A芯片规格将备受关注。