美国政府正考虑取消三星(Samsung)SK海力士(SK hynix)的晶圆厂设备无限期出口许可,转而采用年度许可制度。据彭博社报道,这一决定将大幅增加监管复杂性,但至少能维持晶圆厂运营的连续性,意味着全球波动剧烈的DRAMNAND闪存供应不会中断。

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此前,三星SK海力士凭借“经验证最终用户”(VEU)资格,在承诺遵守美国安全与监控措施的前提下,获得了向中国工厂进口受限制晶圆制造设备(WFE)的全面许可,极大简化了运营流程。这些许可将于今年年底到期。

美国商务部提议以“厂区许可”模式替代VEU制度,并于近期向韩国官员提交该方案。根据新规,三星SK海力士需每年申请固定清单的设备及材料许可,且必须预先申报数量。此举旨在维持现有生产线运转的同时,阻止通过设备升级扩产提升中国获取先进芯片技术的能力。

尽管该妥协方案能避免供应链冲击,但韩国官员和高管担忧其缺乏灵活性——设备突发故障或计划外维修需求若未包含在初始许可中,可能因年中重新申请审批而导致生产延误。美方官员回应称紧急许可可快速获批,但业内仍存疑虑。

此次出口管制政策调整源于2022年出台的美国设备出口限制措施,当时针对的是用于制造16纳米及更先进逻辑芯片的FinFET晶体管、18纳米半间距DRAM以及128层及以上3D NAND闪存的设备,旨在限制中国发展先进芯片与计算机技术。但英特尔(Intel)三星SK海力士台积电(TSMC)获得了继续运营中国工厂的豁免许可。

最终,美方希望加强对输往中国晶圆厂设备的监管透明度,即使这些工厂由韩国、台湾等盟友地区的企业所有。尽管存在反对声音,年度厂区许可模式可能是当前最可行的方案。据悉特朗普政府官员坚决反对恢复VEU框架,批评该制度是拜登时代留下的漏洞。但若改为每年处理数千份单独许可申请,对两国政府和企业而言都难以实现。


文章标签: #美国出口管制 #晶圆设备 #三星 #SK海力士 #芯片技术

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