为庆祝iPhone问世20周年，苹果公司计划在2027年推出具有里程碑意义的设计革新。这款设备将实现用户多年来的期待——正面采用无开孔无干扰的全屏幕方案。最新消息显示，苹果不仅会取消屏幕边框，更会将面容ID（Face ID）传感器和前置摄像头完全隐藏在显示屏下方。值得注意的是，由于涉及复杂生产工艺，这款全屏iPhone将选择在中国制造。
这款20周年纪念机型将采用致敬初代iPhone的玻璃材质工艺，结合屏下摄像头与面容ID技术。虽然过去十年间出现过无数全屏iPhone概念图，但这次苹果正将其变为现实。回顾历史，苹果上一次突破性设计变革是2017年十周年纪念款iPhone X，而此次20周年纪念机型至少会有一个型号获得全面升级。
知名科技记者马克·古尔曼（Mark Gurman）在最新《Power On》专栏中透露，2027款iPhone将经历“极其复杂”的重新设计，其生产工艺需要依赖中国顶尖制造技术。尽管苹果近年来持续扩大印度和越南的生产布局，但这款周年纪念机型仍将由中国工厂独家承制。
据可靠消息源描述，20周年纪念款iPhone将实现真正的无边框显示效果，通过屏幕下隐藏技术彻底消除面容ID系统和前置摄像头的物理开孔。设备边框将采用近乎隐形的超窄设计，呈现极具未来感的视觉体验。特别值得关注的是，整机将大量运用玻璃材质，力图重现2007年初代iPhone“一整块玻璃”的经典设计理念。
当前苹果仍面临特朗普政府遗留的25%进口关税压力，导致设备生产成本居高不下。但出于对20周年纪念机型品质保障的考量，公司仍坚持选择中国而非印度作为生产基地。根据供应链信息，印度工厂未来将主要承担中低端iPhone型号的生产任务。
业界分析指出，这款纪念机型可能面临双重成本挑战：既有高额关税压力，又有创新设计带来的额外制造成本。不过苹果正在推进的芯片自研计划（包括新款C系列调制解调器）或将帮助控制部分成本。随着研发进程推进，更多技术细节预计将在未来两年逐步披露。
