俄罗斯正积极推进半导体产业国产化进程,计划在2030年前启动基于国产28纳米级工艺的芯片量产。这项技术突破将助力MCST公司开发基于SPARC架构的Elbrus(厄尔布鲁士)处理器,为本土企业提供符合性能需求的CPU。不过行业专家强调,必须优先构建完善的Elbrus生态系统,才能确保这类处理器的实际应用价值。

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MCST公司发展部副主任康斯坦丁·特鲁什金在公开活动中表示:“新型晶圆厂预计将在2028至2030年间建成投产。但需要明确的是,由于无法获得英特尔x86架构的授权许可,采用Elbrus指令集的处理器将成为国产芯片的核心方向。”该声明通过ComNews报道引发业界关注。

自2022年俄乌冲突爆发后,台湾地区对俄实施先进芯片禁运政策,这恰好与俄罗斯振兴本土半导体产业的战略形成时间重叠。目前俄罗斯已成功研发350纳米级光刻设备,但尚未形成量产能力。与此同时,ZNTC公司正在开发的130纳米工艺设备也面临技术突破压力,更先进制程技术的研发时间表仍存在不确定性。

值得关注的是,有消息称俄罗斯已通过非官方渠道获得ASML公司的PAS 5500系列光刻设备。该设备系列中性能最强的机型采用193纳米波长ArF激光器,理论上可实现90纳米制程精度(PAS 5500/1150C型号)。

MCST公司致力于成为首家为俄罗斯企业提供高性能国产CPU的厂商。特鲁什金指出,依赖国外处理器架构将导致国家信息系统面临重大安全隐患,因此必须发展独立于Arm或x86的自主硬件体系。他同时承认,这种技术转型面临严峻挑战,特别是需要将现有软件系统迁移至新硬件平台。从x86或Arm架构转向Elbrus系统时,软件兼容性和性能优化将成为主要技术障碍。

InfoTeKS公司代表德米特里·古谢夫对Elbrus处理器的应用前景提出质疑。他透露,公司曾在2017年前后尝试引入Elbrus处理器,最终因缺乏能够适配该架构的软件开发团队而终止项目。古谢夫建议,政府应通过教育体系培养专业人才,而非采用行政手段强制推广新技术。他强调:“只有通过系统化的人才储备,才能避免未来五到八年出现技术人才短缺的困境。”


文章标签: #俄罗斯 #半导体 #国产化 #处理器 #光刻机

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