英伟达（NVIDIA）首席执行官黄仁勋对环绕栅极（GAA）工艺的未来应用持乐观态度，声称该技术将带来显著的性能提升。
据透露，英伟达计划采用台积电（TSMC）N2制程的GAA技术，这项技术很可能应用于即将推出的“费曼”（Feynman）人工智能产品线。黄仁勋并不盲目信奉摩尔定律，也不让其主导新架构的性能发展趋势。英伟达的核心战略始终致力于突破传统性能升级模式，这一理念贯穿公司多年发展历程。正因如此，当《电子工程专辑》（EETimes）问及对GAA技术的看法时，黄仁勋表示这项技术虽能提升性能，但尚不足以“改变世界”。
英伟达CEO指出，GAA晶体管在特定制程节点可实现20%的性能提升，但未具体说明应用领域，这一表述稍显笼统。不过对于大规模AI集群而言，关键在于如何优化单个组件的管理与互联——正是通过聚焦这一领域，英伟达取得的突破远超摩尔定律的预期。
截至目前，芯片行业对GAA技术的采用仍存疑虑。三星（Samsung）虽率先推出基于该技术的3纳米GAA制程，但良品率始终未能达到行业标准，最近数据显示仅为20%，远低于合格线。而台积电方面，据传将在N2（2纳米）制程中引入GAA技术。
业界预测英伟达将在2028年发布的“费曼”AI架构中采用GAA技术，届时很可能搭载台积电N2制程。这家显卡巨头向来不急于采用最新制程工艺，通常会等待数年待技术成熟。对英伟达而言，“黄氏定律”才是核心要义——通过架构创新驱动性能提升，这正是该公司能在十年间实现芯片能效千倍跃升的秘诀。
